專利名稱： 高反射率陶瓷腔體的制備方法
公開（告）號： CN1830890
申請（專利）號： 200610066448.9
發明（設計）人： 李 強;姜夢華;丁小艇
(申請)專利權（人）： 北京工業大學
內容：（摘要）本發明屬大功率固體激光器領域。現有陶瓷腔體一次成型，且釉層不含氧化釤，反射率90％，電光轉換效率3％，且使輸出功率受到限制。本發明步驟：制備90～110nm的氧化鋁粉，用乙醇或乙醚拌成泥狀，鋪平模具內，每次鋪設的厚度為0.8mm-1.2mm，每鋪完一層均經預處理，即對氧化鋁粉末加溫加壓，壓力600-1200kg，溫度500 -800℃，持續時間6-10小時，總厚度為12mm-16mm完成氧化鋁腔體的成形；燒結；腔體表面加工至粗糙度小于0.1mm；退火；表面上釉，釉層材料為硫酸鋇并摻氧化釤，氧化釤重量百分比為1.0-1.5 ％，制備90～100nm的硫酸鋇和氧化釤粉末，將兩者混合并拌成稀泥狀刷于腔體表面，厚度為0.1～0.2mm，燒結。本發明使得陶瓷腔體致密性好，泵浦均勻性好、反射率高，泵浦光轉換效率高。
主權項：一種高反射率陶瓷腔體的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： 第一步，制備粉體直徑為90～110nm的氧化鋁粉末，用乙醇或乙醚將氧化鋁粉末拌成泥狀，均勻鋪平于已設計好的陶瓷腔體模具內，每次鋪設的厚度為0.8mm-1.2mm，每鋪完一層，均經預處理，即對氧化鋁粉末加溫加壓，壓力范圍為600-1200kg，溫度范圍500- 800℃，持續時間6-10小時，鋪設總厚度為12mm-16mm完成氧化鋁腔體的成形； 第二步，對成形的氧化鋁腔體進行燒結； 第三步，氧化鋁陶瓷腔體腔體表面在磨床上對陶瓷腔體表面進行加工，表面粗糙度小于0.1mm； 第四步，表面加工后的氧化鋁陶瓷腔體進行退火處理； 第五步，氧化鋁陶瓷腔體表面上釉，釉層材料為硫酸鋇并摻氧化釤，氧化釤重量百分比為1.0-1.5％，制備粉體直徑為90～100nm的硫酸鋇粉末和氧化釤粉末，用乙醇或乙醚將兩者混合并拌成稀泥狀，均勻刷于氧化鋁陶瓷腔體表面，厚度為0.1～0.2mm，置于燒結爐內燒結。
