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鋁合金表面無疏松層微弧氧化陶瓷膜及其制備方法
日期:2012-05-28

 

    專利名稱: 鋁合金表面無疏松層微弧氧化陶瓷膜及其制備方法 
 
    公開(告)號: CN1844482 
 
    申請(專利)號: 200610009889.5 
 
    發明(設計)人: 狄士春;潘明強 
 
    (申請)專利權(人): 狄士春 
 
    內容:(摘要)鋁合金表面無疏松層微弧氧化陶瓷膜及其制備方法,涉及一種鋁合金表面的微弧氧化陶瓷膜層及其制備工藝。本發明的目的在于對鋁合金表面微弧氧化處理提出一種只有常規過渡層(1-2)和致密層(1-3)的新兩層結構膜層,其中過渡層(1-2)占總膜層厚度的1/5~1/3。其處理方法為:將鋁合金工件置于含有工作液的不銹鋼槽體中,采用正負雙極性脈沖電源提供電能,控制正向電壓為500~700V,負向電壓為40~180V,電流密度為0.2~15A/dm2,處理時間為 30~150min,處理溫度不高于35℃。本發明的兩層結構微弧氧化陶瓷膜層不僅能有效地解決常規三層結構的膜層疏松層所帶來的技術難題,同時還能有效提高膜層的表面質量。 
 
    主權項:1、鋁合金表面無疏松層微弧氧化陶瓷膜,其特征在于所述微弧氧化膜層由過渡層(1-2)和致密層(1-3)組成,其中過渡層(1-2)占總膜層厚度的1/5~ 1/3。
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